用于高纯氯硅烷生产中去除含碳杂质的装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020204804.4

申请日：

2020-02-24

公开(公告)号：

CN212315554U

公开(公告)日：

2021-01-08

发明(设计)人：

杨典万烨赵雄孙强王芳付强裴蕾张征

申请人：

申请人地址：

471023 河南省洛阳市洛龙科技工业园牡丹大道西1号

IPC主分类号：

C01B33107

IPC分类号：

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

梁文惠

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-08	授权	授权

共 50 条

[1]

用于高纯氯硅烷生产中去除含碳杂质的方法及装置 [P].

杨典 ;

万烨 ;

赵雄 ;

孙强 ;

王芳 ;

付强 ;

裴蕾 ;

张征 .

中国专利 :CN111115637A ,2020-05-08

[2]

一种去除高纯氯硅烷痕量杂质的装置和方法 [P].

黄海涛 ;

贾琳蔚 ;

杨强 ;

鲜洪 ;

王劭南 .

中国专利 :CN107235494A ,2017-10-10

[3]

一种氯硅烷碳杂质去除的系统 [P].

明勇 ;

黄勤 ;

彭杨 ;

王峰 ;

马科武 ;

李兵 ;

庹如刚 ;

晏涛 .

中国专利 :CN223069099U ,2025-07-08

[4]

一种吸附脱除甲基氯硅烷杂质制备高纯三氯氢硅的装置和方法 [P].

王红星 ;

陈锦溢 ;

华超 ;

刘洋 .

中国专利 :CN109205627A ,2019-01-15

[5]

一种氯硅烷碳杂质去除的系统及方法 [P].

明勇 ;

母亚平 ;

王峰 ;

李兵 ;

庹如刚 ;

蒲勇 ;

晏涛 ;

邱孝兵 .

中国专利 :CN120502115A ,2025-08-19

[6]

用于从氯硅烷中去除杂质的方法和设备 [P].

K·席林格 ;

N·米伦科维奇 .

中国专利 :CN111263732A ,2020-06-09

[7]

从无机硅烷中去除含杂质的金属 [P].

H·劳尔德 ;

E·穆 ;

J·蒙基维奇 ;

H·J·霍恩 ;

R·索南谢恩 .

中国专利 :CN101412513A ,2009-04-22

[8]

一种去除氯硅烷中含碳杂质的反应精馏提纯方法及装置 [P].

黄国强 ;

张明鑫 .

中国专利 :CN110980742A ,2020-04-10

[9]

纯化有含磷杂质的高纯氢或高纯氯硅烷的方法 [P].

吕学谦 ;

银波 ;

何隆 ;

宋高杰 ;

范协诚 .

中国专利 :CN106517094B ,2017-03-22

[10]

去除氯硅烷体系中硼杂质的隔板吸附装置及方法 [P].

黄国强 ;

石秋玲 ;

王红星 ;

华超 ;

王国峰 ;

姚帅鹏 .

中国专利 :CN102058992B ,2011-05-18

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