一种降低焦铜镀液铜离子的装置

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专利类型
实用新型
申请号
CN201921499505.1
申请日
2019-09-10
公开(公告)号
CN210736922U
公开(公告)日
2020-06-12
发明(设计)人
刘世军 丁玉生 薄彪 徐蠡华 黄艮军 蒋荣莹
申请人
申请人地址
225721 江苏省泰州市兴化市戴南镇人民西路88号
IPC主分类号
C25D338
IPC分类号
C25D706 C25D1702 C25D1712 C25D2100
代理机构
南京科知维创知识产权代理有限责任公司 32270
代理人
许益民
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种降低焦铜镀液铜离子的装置 [P]. 
刘世军 ;
丁玉生 ;
薄彪 ;
徐蠡华 ;
黄艮军 ;
蒋荣莹 .
中国专利 :CN110512242A ,2019-11-29
[2]
一种铜镀液 [P]. 
郑臣谋 ;
高健 ;
黄雄 ;
刘彬云 ;
肖定军 ;
万会勇 .
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[3]
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[4]
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湛杰 ;
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[5]
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赖奂汶 .
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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