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一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202111337327.4
申请日：
2021-11-12
公开(公告)号：
CN114000093A
公开(公告)日：
2022-02-01
发明(设计)人：
胡习光
张志祥
刘勇
申请人：
申请人地址：
214400 江苏省无锡市江阴市金山路201号创智产业园能量岛B座1楼
IPC主分类号：
C23C4134
IPC分类号：
C23C1434
C23C416
代理机构：
代理人：
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-02-22 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 4/134 申请日:20211112 |
| 2022-02-01 | 公开 | 公开 |