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凹面衍射光栅的制造方法、凹面衍射光栅及使用其的分析装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201880059819.1
申请日
:
2018-11-07
公开(公告)号
:
CN111095043A
公开(公告)日
:
2020-05-01
发明(设计)人
:
八重樫健太
江畠佳定
青野宇纪
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G02B518
IPC分类号
:
B29C5902
G01J318
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
钟晶;陈彦
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-01
公开
公开
2020-05-29
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/18 申请日:20181107
共 50 条
[1]
凹面衍射光栅的制造方法、制造装置以及凹面衍射光栅
[P].
八重樫健太
论文数:
0
引用数:
0
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0
八重樫健太
;
江畠佳定
论文数:
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江畠佳定
;
青野宇纪
论文数:
0
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青野宇纪
.
中国专利
:CN113167944A
,2021-07-23
[2]
凹面衍射光栅以及光学装置
[P].
青野宇纪
论文数:
0
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0
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0
青野宇纪
;
江畠佳定
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0
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江畠佳定
;
八重樫健太
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八重樫健太
;
松井繁
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松井繁
;
内田功
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0
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0
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内田功
;
山本治朗
论文数:
0
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0
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山本治朗
.
中国专利
:CN115004065A
,2022-09-02
[3]
衍射光栅以及使用了该衍射光栅的分析装置、衍射光栅的制造方法
[P].
青野宇纪
论文数:
0
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0
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0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
青野宇纪
;
八重樫健太
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
八重樫健太
;
江畠佳定
论文数:
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
江畠佳定
;
内田功
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0
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0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
内田功
.
日本专利
:CN120500649A
,2025-08-15
[4]
凹面衍射光栅以及其制造方法、和光学装置
[P].
青野宇纪
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0
青野宇纪
;
江畠佳定
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江畠佳定
;
八重樫健太
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八重樫健太
;
松井繁
论文数:
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0
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0
松井繁
.
中国专利
:CN112313548B
,2021-02-02
[5]
一种凹面衍射光栅衍射波前的检测方法
[P].
钱林勇
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0
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0
钱林勇
;
黄元申
论文数:
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黄元申
;
徐邦联
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徐邦联
;
王琦
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0
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王琦
;
张大伟
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0
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张大伟
;
陶春先
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陶春先
;
倪争技
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0
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倪争技
;
庄松林
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0
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0
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庄松林
.
中国专利
:CN102706542A
,2012-10-03
[6]
曲面衍射光栅的模型的制造方法、曲面衍射光栅的制造方法、曲面衍射光栅以及光学装置
[P].
青野宇纪
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0
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青野宇纪
;
松井繁
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松井繁
;
江畠佳定
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江畠佳定
;
八重樫健太
论文数:
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八重樫健太
.
中国专利
:CN106574998A
,2017-04-19
[7]
具有凹面衍射光栅的光学分光计
[P].
E·弗勒泰尔
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0
E·弗勒泰尔
;
M·卡萨雷斯
论文数:
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M·卡萨雷斯
;
O·博诺
论文数:
0
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O·博诺
;
O·罗热里厄斯
论文数:
0
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0
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0
O·罗热里厄斯
.
中国专利
:CN102713541B
,2012-10-03
[8]
衍射光栅的制造方法、衍射效率计算方法及衍射光栅
[P].
浮田龙一
论文数:
0
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0
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0
浮田龙一
.
中国专利
:CN107290812A
,2017-10-24
[9]
曲面衍射光栅的制造方法、曲面衍射光栅的模具以及使用该曲面衍射光栅的模具的曲面衍射光栅
[P].
青野宇纪
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青野宇纪
;
江畠佳定
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江畠佳定
;
松井繁
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松井繁
;
渡边哲也
论文数:
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渡边哲也
;
小野田有吾
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0
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小野田有吾
.
中国专利
:CN104335082B
,2015-02-04
[10]
衍射光栅的制造方法和复制衍射光栅的制造方法
[P].
八重㭴健太
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
八重㭴健太
;
江畠佳定
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
江畠佳定
;
青野宇纪
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
青野宇纪
.
日本专利
:CN117501156A
,2024-02-02
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