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真空反应腔室和真空镀膜设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201921119514.3
申请日：
2019-07-16
公开(公告)号：
CN211112211U
公开(公告)日：
2020-07-28
发明(设计)人：
杨娜
申请人：
申请人地址：
100176 北京市大兴区亦庄经济技术开发区荣华南路9号院2号楼10层
IPC主分类号：
C23C1650
IPC分类号：
代理机构：
北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662
代理人：
姜波
法律状态：
专利申请权、专利权的转移
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-01-29 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利权的转移 IPC(主分类):C23C 16/50 登记生效日:20210118 变更事项:专利权人 变更前权利人:君泰创新(北京)科技有限公司 变更后权利人:德运创鑫（北京）科技有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:100176 北京市大兴区亦庄经济技术开发区荣华南路9号院2号楼10层 变更后权利人:101149 北京市通州区中关村科技园区通州园金桥科技产业基地环科中路17号26幢1至3层102-LQ307 |
| 2020-07-28 | 授权 | 授权 |