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一种激光刻蚀精密对位平台
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202022834427.5
申请日：
2020-12-01
公开(公告)号：
CN215698884U
公开(公告)日：
2022-02-01
发明(设计)人：
石利
申请人：
申请人地址：
214000 江苏省无锡市建筑西路777(A10)-20层
IPC主分类号：
B23K26362
IPC分类号：
B23K2670
代理机构：
无锡市朗高知识产权代理有限公司 32262
代理人：
夏楠
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-02-01 | 授权 | 授权 |