曝光装置以及曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580028236.5

申请日：

2005-11-07

公开(公告)号：

CN101015038A

公开(公告)日：

2007-08-08

发明(设计)人：

近藤洋行宫地敬

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G03F720 G21K502 H05H124

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

左一平

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-08-08	公开	公开
2009-07-01	授权	授权

共 50 条

[1]

曝光方法以及曝光装置 [P].

滨崎正和 .

中国专利 :CN111522204A ,2020-08-11

[2]

曝光装置以及曝光方法 [P].

永井妥由 .

日本专利 :CN120652749A ,2025-09-16

[3]

曝光方法以及曝光装置 [P].

侯广杰 ;

叶小龙 ;

王栋 ;

谢超 .

中国专利 :CN113703280A ,2021-11-26

[4]

曝光方法以及曝光装置 [P].

中井一博 .

日本专利 :CN119452311A ,2025-02-14

[5]

曝光装置以及曝光方法 [P].

西健尔 ;

太田和哉 .

中国专利 :CN1244019C ,2001-11-21

[6]

曝光装置以及曝光方法 [P].

永井新一郎 ;

軽石修作 ;

原田智纪 ;

川岛洋德 ;

林慎一郎 ;

岸田学 .

中国专利 :CN101986207A ,2011-03-16

[7]

曝光装置以及曝光方法 [P].

今井洋之 .

中国专利 :CN109557768A ,2019-04-02

[8]

曝光方法以及曝光装置 [P].

荻原元德 .

中国专利 :CN109541892A ,2019-03-29

[9]

曝光装置以及曝光方法 [P].

加藤正纪 ;

小山元夫 .

中国专利 :CN1432874A ,2003-07-30

[10]

曝光装置以及曝光方法 [P].

西健尔 ;

太田和哉 .

中国专利 :CN1144263C ,2000-01-19

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