铈基抛光料和铈基抛光浆料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02811936.3

申请日：

2002-11-15

公开(公告)号：

CN1289626C

公开(公告)日：

2004-08-11

发明(设计)人：

别所直纪

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

C01F1700 B24B3700 H01L21304

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

林柏楠;黄革生

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-10-20	实质审查的生效	实质审查的生效
2022-12-02	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C09K 3/14 申请日:20021115 授权公告日:20061213
2006-12-13	授权	授权
2004-08-11	公开	公开

共 50 条

[1]

基于氧化铈的抛光工艺和氧化铈基浆料 [P].

拉加塞克哈尔·维尼加拉 ;

詹姆斯·W·汉纳 ;

蒂莫西·M·麦考马克 ;

小罗伯特·M·莫克林 .

中国专利 :CN1750239B ,2006-03-22

[2]

氧化铈抛光粒子及抛光浆料组合物 [P].

金正训 ;

李正揆 ;

张孝俊 .

韩国专利 :CN115895595B ,2024-12-31

[3]

一种高世代液晶玻璃基板用铈基抛光浆料 [P].

梅燕 ;

陈文娟 ;

毛倩瑾 .

中国专利 :CN118064059A ,2024-05-24

[4]

一种高三价铈离子含量的铈基稀土抛光浆料的制备方法 [P].

王觅堂 .

中国专利 :CN117210136B ,2024-04-05

[5]

新型铈基粒子及包括其的抛光浆料组合物 [P].

李正揆 ;

张孝俊 ;

黄晙夏 .

中国专利 :CN115612407A ,2023-01-17

[6]

一种稀土铈基抛光浆生产方法 [P].

郝志庆 ;

萧桐 ;

罗亚明 .

中国专利 :CN104194646A ,2014-12-10

[7]

铈基磨料和铈基磨料的制造方法 [P].

伊藤昭文 ;

山崎秀彦 ;

望月直义 ;

内野义嗣 .

中国专利 :CN1177012C ,2003-01-29

[8]

氧化铈浆料、氧化铈抛光液以及使用其抛光衬底的方法 [P].

榎本和宏 ;

吉川茂 .

中国专利 :CN101291778A ,2008-10-22

[9]

氧化铈粉体抛光浆料的生产方法 [P].

茅云 ;

汪静 ;

闫胜利 .

中国专利 :CN102559066A ,2012-07-11

[10]

一种氧化铈基抛光粉及制备方法、抛光液及应用 [P].

杨娟玉 ;

王宁 ;

张振羽 ;

黄小卫 ;

郑媛媛 ;

王幸子 ;

冯宗玉 .

中国专利 :CN119662130A ,2025-03-21

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