一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法

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专利类型
发明
申请号
CN201010232572.4
申请日
2010-07-21
公开(公告)号
CN102336870A
公开(公告)日
2012-02-01
发明(设计)人
方国臻 王俊平 潘明飞 王硕
申请人
申请人地址
300000 天津市经济技术开发区十三大街29号天津科技大学食品工程与生物技术学院
IPC主分类号
C08F22214
IPC分类号
C08F22006 C08F244 C08J926 B01J2026 B01J2030 B01J2028
代理机构
代理人
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
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共 50 条
[1]
一种氯磺隆分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
方国臻 ;
王俊平 ;
郭璐 ;
王硕 .
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[2]
一种用于富集苯系物的分子印迹聚合物制备方法 [P]. 
娄大伟 ;
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[3]
一种分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
孙姝琦 ;
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[4]
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[6]
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[7]
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[8]
一种芹菜素分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
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宋承成 ;
万金城 .
中国专利 :CN101665551B ,2010-03-10
[9]
一种可富集紫杉醇的分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
刘方 ;
闫艳 ;
李宁 ;
周蓉 ;
王一君 ;
张可人 .
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[10]
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李洪吉 ;
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卢凯 ;
徐叶青 ;
郝桐帆 ;
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