离子镀膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201020508528.7

申请日：

2010-08-27

公开(公告)号：

CN201817542U

公开(公告)日：

2011-05-04

发明(设计)人：

金春伟奂微微

申请人：

申请人地址：

215200 江苏省吴江市松陵镇八坼友谊工业区

IPC主分类号：

C23C1422

IPC分类号：

代理机构：

南京纵横知识产权代理有限公司 32224

代理人：

董建林

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-11-18	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101723891349 IPC(主分类):C23C 14/22 专利号:ZL2010205085287 登记生效日:20151030 变更事项:专利权人变更前权利人:苏州五方光电科技有限公司变更后权利人:湖北五方光电科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:215200 江苏省吴江市松陵镇八坼友谊工业区变更后权利人:433200 湖北省荆州市经济开发区深圳大道55号
2011-05-04	授权	授权
2017-11-10	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/22 变更事项:专利权人变更前:湖北五方光电科技有限公司变更后:湖北五方光电股份有限公司变更事项:地址变更前:433200 湖北省荆州市经济开发区深圳大道55号变更后:434020 湖北省荆州市深圳大道55号
2020-09-22	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 14/22 申请日:20100827 授权公告日:20110504

共 50 条

[1]

离子镀膜装置 [P].

金春伟 ;

奂微微 .

中国专利 :CN101956161A ,2011-01-26

[2]

离子镀膜设备 [P].

石芳萍 .

中国专利 :CN204265830U ,2015-04-15

[3]

真空离子镀膜系统 [P].

石芳萍 .

中国专利 :CN204265833U ,2015-04-15

[4]

电弧离子镀膜装置 [P].

刘威 ;

冯森 ;

蹤雪梅 .

中国专利 :CN212476868U ,2021-02-05

[5]

真空离子镀膜设备 [P].

石芳萍 .

中国专利 :CN204265832U ,2015-04-15

[6]

等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置 [P].

吕尚亿 ;

丁雪苗 ;

赵公魄 ;

赵芝强 .

中国专利 :CN213708469U ,2021-07-16

[7]

离子镀膜装置 [P].

赵振寰 .

中国专利 :CN2203979Y ,1995-07-26

[8]

电弧离子镀膜装置 [P].

刘威 ;

冯森 ;

蹤雪梅 .

中国专利 :CN111893440A ,2020-11-06

[9]

真空离子镀膜装置 [P].

付德君 ;

李娜 ;

曾晓梅 .

中国专利 :CN207452239U ,2018-06-05

[10]

电弧离子镀膜装置 [P].

冯森 ;

刘威 ;

蹤雪梅 .

中国专利 :CN111893440B ,2024-11-01

← 1 2 3 4 5 →