抛光工作台

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201621271499.0
申请日
2016-11-14
公开(公告)号
CN206154078U
公开(公告)日
2017-05-10
发明(设计)人
张仁国 陈建丽
申请人
申请人地址
325200 浙江省温州市瑞安市经济开发区世纪大道
IPC主分类号
B24B2902
IPC分类号
B24B5506 B24B4102 B24B5500
代理机构
代理人
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
抛光机工作台 [P]. 
王开慧 .
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[2]
单晶硅片抛光工作台 [P]. 
陈创 .
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[3]
组合工作台 [P]. 
包剑刚 ;
王小强 ;
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[4]
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[8]
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[9]
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[10]
工作台 [P]. 
李井建 .
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