一种基于偏最小二乘方法的电阻抗成像方法

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专利类型
发明
申请号
CN201710854425.2
申请日
2017-09-20
公开(公告)号
CN107647866A
公开(公告)日
2018-02-02
发明(设计)人
刘瑞兰 张夏婉 戎舟
申请人
申请人地址
210023 江苏省南京市栖霞区文苑路9号
IPC主分类号
A61B5053
IPC分类号
代理机构
南京经纬专利商标代理有限公司 32200
代理人
刘莎
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
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[6]
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[9]
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徐灿华 ;
代萌 .
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[10]
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