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保护膜形成用膜以及保护膜形成用复合片
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780011923.9
申请日
:
2017-04-25
公开(公告)号
:
CN108701640B
公开(公告)日
:
2018-10-23
发明(设计)人
:
稻男洋一
小桥力也
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L21683
IPC分类号
:
B32B2700
B32B2716
C08F244
C08J518
C09J700
C09J20100
代理机构
:
北京路浩知识产权代理有限公司 11002
代理人
:
张晶;谢顺星
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-11-16
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/683 申请日:20170425
2018-10-23
公开
公开
2022-12-20
授权
授权
共 50 条
[1]
保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片
[P].
稻男洋一
论文数:
0
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稻男洋一
;
小桥力也
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小桥力也
;
古野健太
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古野健太
.
中国专利
:CN108350108A
,2018-07-31
[2]
保护膜形成用膜以及保护膜形成用复合片
[P].
山本大辅
论文数:
0
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机构:
琳得科株式会社
琳得科株式会社
山本大辅
;
稻男洋一
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0
机构:
琳得科株式会社
琳得科株式会社
稻男洋一
.
日本专利
:CN109071845B
,2024-08-09
[3]
保护膜形成用膜以及保护膜形成用复合片
[P].
稻男洋一
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稻男洋一
;
小桥力也
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小桥力也
.
中国专利
:CN108966656A
,2018-12-07
[4]
保护膜形成用膜以及保护膜形成用复合片
[P].
山本大辅
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山本大辅
;
稻男洋一
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稻男洋一
.
中国专利
:CN109071845A
,2018-12-21
[5]
保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片
[P].
佐伯尚哉
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佐伯尚哉
;
山本大辅
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山本大辅
;
高野健
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高野健
.
中国专利
:CN104937712B
,2015-09-23
[6]
保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片
[P].
米山裕之
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米山裕之
;
稻男洋一
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稻男洋一
;
小桥力也
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小桥力也
.
中国专利
:CN109005667A
,2018-12-14
[7]
保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片
[P].
山本大辅
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山本大辅
;
稻男洋一
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稻男洋一
.
中国专利
:CN108884244B
,2018-11-23
[8]
保护膜形成用复合片
[P].
佐藤明徳
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佐藤明徳
;
稻男洋一
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稻男洋一
.
中国专利
:CN108778731A
,2018-11-09
[9]
保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片
[P].
米山裕之
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机构:
琳得科株式会社
琳得科株式会社
米山裕之
;
稻男洋一
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机构:
琳得科株式会社
琳得科株式会社
稻男洋一
;
小桥力也
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机构:
琳得科株式会社
琳得科株式会社
小桥力也
.
日本专利
:CN119141993A
,2024-12-17
[10]
保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片
[P].
薄刃美玲
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薄刃美玲
;
米山裕之
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0
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米山裕之
.
中国专利
:CN112625276A
,2021-04-09
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