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一种高效冷却的研磨分散装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202020851287.X
申请日
:
2020-05-20
公开(公告)号
:
CN213050987U
公开(公告)日
:
2021-04-27
发明(设计)人
:
于庆新
申请人
:
申请人地址
:
300000 天津市西青区王稳庄镇政府北(丽华色材总厂内)
IPC主分类号
:
B02C2100
IPC分类号
:
B02C1900
B02C1922
B02C2318
代理机构
:
天津协众信创知识产权代理事务所(普通合伙) 12230
代理人
:
孟会贤
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-04-27
授权
授权
共 50 条
[1]
一种高效冷却的研磨分散装置
[P].
于庆新
论文数:
0
引用数:
0
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0
于庆新
.
中国专利
:CN111672608A
,2020-09-18
[2]
一种高效纳米研磨分散装置
[P].
何学文
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0
何学文
;
汪承有
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汪承有
.
中国专利
:CN209393259U
,2019-09-17
[3]
高效分散装置
[P].
连江平
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0
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连江平
;
李倩倩
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李倩倩
;
成信刚
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成信刚
;
马书良
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马书良
.
中国专利
:CN207970791U
,2018-10-16
[4]
一种研磨分散装置
[P].
孙湘辉
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孙湘辉
;
潘远辉
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潘远辉
;
秦远春
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秦远春
;
龚利凤
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龚利凤
.
中国专利
:CN213611675U
,2021-07-06
[5]
一种研磨分散装置
[P].
周玉树
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机构:
苏州世名科技股份有限公司
苏州世名科技股份有限公司
周玉树
;
周华
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机构:
苏州世名科技股份有限公司
苏州世名科技股份有限公司
周华
;
胡艺民
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机构:
苏州世名科技股份有限公司
苏州世名科技股份有限公司
胡艺民
.
中国专利
:CN221816279U
,2024-10-11
[6]
一种有机颜料高效研磨分散装置
[P].
杨乾辉
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杨乾辉
;
宗绍亮
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宗绍亮
;
韩水伦
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韩水伦
.
中国专利
:CN217249172U
,2022-08-23
[7]
一种高效的分散装置
[P].
黄焕威
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0
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黄焕威
.
中国专利
:CN216149607U
,2022-04-01
[8]
高效的分散装置
[P].
伍佩铭
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伍佩铭
;
许迪
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许迪
;
董鹏程
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董鹏程
;
高辉
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高辉
;
孙胜延
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孙胜延
;
杨艳
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0
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杨艳
.
中国专利
:CN214438130U
,2021-10-22
[9]
一种高效分散装置
[P].
俞汉臣
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0
俞汉臣
.
中国专利
:CN212237118U
,2020-12-29
[10]
一种高效分散装置
[P].
周国良
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周国良
;
李耀昇
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李耀昇
.
中国专利
:CN211612472U
,2020-10-02
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