大面积光刻的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480036055.2

申请日：

2004-11-03

公开(公告)号：

CN1890604B

公开(公告)日：

2007-01-03

发明(设计)人：

巴巴克·海德瑞马奇·贝克

申请人：

申请人地址：

瑞典马尔默

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

王永刚

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-10-13	授权	授权
2007-01-03	公开	公开
2007-02-28	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

一种大面积纳米压印光刻的装置和方法 [P].

兰红波 ;

丁玉成 .

中国专利 :CN102591143A ,2012-07-18

[2]

一种大面积纳米光刻模块、装置和方法 [P].

相里斌 ;

罗先刚 .

中国专利 :CN120669490A ,2025-09-19

[3]

大面积基板上沉积的装置和方法 [P].

约翰·M·怀特 ;

桑杰伊·雅达夫 ;

王群华 ;

崔寿永 ;

王伟杰 .

中国专利 :CN101642001A ,2010-02-03

[4]

大面积纳米图形化的装置和方法 [P].

兰红波 .

中国专利 :CN103235483B ,2013-08-07

[5]

一种光刻机大面积静态调焦调平的装置和方法 [P].

齐景超 ;

陈飞彪 .

中国专利 :CN105892241A ,2016-08-24

[6]

大面积微纳图形化的装置和方法 [P].

兰馨然 ;

兰红波 .

中国专利 :CN105159029A ,2015-12-16

[7]

生产大面积纤维合成结构组件的装置和方法 [P].

乔治·申德尔 ;

贝尔恩德·奥斯特迈耶尔 ;

托马斯·康索尔克 ;

拉尔夫-皮特·迪特曼 .

中国专利 :CN101426636B ,2009-05-06

[8]

快速扫描检测大面积光电器件的装置和方法 [P].

钱森 ;

高峰 .

中国专利 :CN108107337B ,2018-06-01

[9]

一种平面拼接大面积光栅装置和方法 [P].

李星辉 ;

高翔 .

中国专利 :CN119126283A ,2024-12-13

[10]

一种平面拼接大面积光栅装置和方法 [P].

李星辉 ;

高翔 .

中国专利 :CN119126283B ,2025-09-30

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