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一种用于氮化铝烧结的高温烧结炉加热系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410456989.7
申请日
:
2014-09-10
公开(公告)号
:
CN104236314B
公开(公告)日
:
2014-12-24
发明(设计)人
:
万喜新
邓斌
王学仕
杨金
申请人
:
申请人地址
:
410111 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
IPC主分类号
:
F27D1106
IPC分类号
:
代理机构
:
长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113
代理人
:
马强
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-01-14
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101595678347 IPC(主分类):F27D 11/06 专利申请号:2014104569897 申请日:20140910
2015-10-28
授权
授权
2014-12-24
公开
公开
共 50 条
[1]
氮化铝陶瓷高温氢气烧结炉
[P].
刘云飞
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刘云飞
;
张春生
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张春生
;
房阳阳
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房阳阳
;
齐亚军
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齐亚军
;
王社礼
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王社礼
.
中国专利
:CN209013750U
,2019-06-21
[2]
一种适用于氮化铝的高温烧结炉
[P].
王成宇
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王成宇
;
邓斌
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邓斌
;
王学仕
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王学仕
.
中国专利
:CN114543532A
,2022-05-27
[3]
一种氮化铝烧结炉
[P].
刘朝辉
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机构:
河南四丰炉业有限公司
河南四丰炉业有限公司
刘朝辉
;
刘早强
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机构:
河南四丰炉业有限公司
河南四丰炉业有限公司
刘早强
.
中国专利
:CN221744693U
,2024-09-20
[4]
一种氮化铝烧结炉
[P].
史秋生
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史秋生
.
中国专利
:CN210802055U
,2020-06-19
[5]
一种氮化铝陶瓷烧结炉
[P].
闫明伟
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机构:
珠海亿特立新材料有限公司
珠海亿特立新材料有限公司
闫明伟
;
郭兰英
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机构:
珠海亿特立新材料有限公司
珠海亿特立新材料有限公司
郭兰英
;
王佳浩
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机构:
珠海亿特立新材料有限公司
珠海亿特立新材料有限公司
王佳浩
.
中国专利
:CN221172947U
,2024-06-18
[6]
一种氮化铝陶瓷基板烧结炉
[P].
邹宇琦
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机构:
苏州玖凌光宇科技有限公司
苏州玖凌光宇科技有限公司
邹宇琦
;
董骏
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机构:
苏州玖凌光宇科技有限公司
苏州玖凌光宇科技有限公司
董骏
;
朱昊楠
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机构:
苏州玖凌光宇科技有限公司
苏州玖凌光宇科技有限公司
朱昊楠
.
中国专利
:CN222104386U
,2024-12-03
[7]
一种氮化铝粉末烧结炉
[P].
施纯锡
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0
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机构:
福建华清电子材料科技有限公司
福建华清电子材料科技有限公司
施纯锡
;
杨大胜
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机构:
福建华清电子材料科技有限公司
福建华清电子材料科技有限公司
杨大胜
;
冯家伟
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机构:
福建华清电子材料科技有限公司
福建华清电子材料科技有限公司
冯家伟
.
中国专利
:CN222688793U
,2025-03-28
[8]
一种氮化铝陶瓷基板烧结炉
[P].
张海龙
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机构:
科菲材料技术(浙江)有限公司
科菲材料技术(浙江)有限公司
张海龙
;
李军
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机构:
科菲材料技术(浙江)有限公司
科菲材料技术(浙江)有限公司
李军
.
中国专利
:CN221666593U
,2024-09-06
[9]
一种用于生产高热导率氮化铝基板的烧结炉
[P].
何敏
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机构:
江西创科新材料科技有限公司
江西创科新材料科技有限公司
何敏
.
中国专利
:CN118274605A
,2024-07-02
[10]
高温烧结炉
[P].
陈梓展
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
陈梓展
;
龙占勇
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
龙占勇
;
韩雪岭
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
韩雪岭
;
林佳继
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
林佳继
.
中国专利
:CN308754702S
,2024-07-26
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