激光照射装置、激光照射方法及投影掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880055632.4

申请日：

2018-08-21

公开(公告)号：

CN111052310A

公开(公告)日：

2020-04-21

发明(设计)人：

水村通伸

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

H01L21268

IPC分类号：

H01L2120 H01L21336 H01L29786

代理机构：

北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人：

洪秀川

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-19	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L 21/268 申请公布日:20200421
2020-04-21	公开	公开

共 50 条

[1]

激光照射装置、投影掩模、激光照射方法及程序 [P].

水村通伸 .

中国专利 :CN110914956A ,2020-03-24

[2]

激光照射装置、投影遮罩及激光照射方法 [P].

水村通伸 .

中国专利 :CN111149188A ,2020-05-12

[3]

激光照射装置、及激光照射方法 [P].

水村通伸 .

中国专利 :CN111164736A ,2020-05-15

[4]

投影掩模及激光照射装置 [P].

水村通伸 .

中国专利 :CN111758150A ,2020-10-09

[5]

激光照射装置及激光照射方法 [P].

及川伸 ;

松本力也 ;

闵晟旭 ;

赵在亨 .

中国专利 :CN103260816A ,2013-08-21

[6]

激光照射方法及激光照射装置 [P].

野田进 ;

臼田香 .

日本专利 :CN118695916A ,2024-09-24

[7]

激光照射装置及激光照射方法 [P].

伊崎泰则 ;

中川爱湖 ;

山田丈史 .

中国专利 :CN108712938B ,2018-10-26

[8]

激光照射装置以及激光照射方法 [P].

伊崎泰则 ;

中川爱湖 .

中国专利 :CN108778605B ,2018-11-09

[9]

激光照射装置及激光照射方法 [P].

奥间惇治 .

中国专利 :CN108698163B ,2018-10-23

[10]

激光照射装置及激光照射方法 [P].

千田格 ;

广田圭一 ;

佐佐木英寿 ;

上原拓也 ;

末武智希 ;

野村光 .

中国专利 :CN102837127A ,2012-12-26

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