半导体级过氧化氢溶液中B、Si元素的去除方法

被引：0

申请号：

CN202210380504.5

申请日：

2022-04-12

公开(公告)号：

CN114671408A

公开(公告)日：

2022-06-28

发明(设计)人：

汪永超白秀君周继业汤磊鹏

申请人：

申请人地址：

311322 浙江省杭州市临安区龙岗镇龙都街858号

IPC主分类号：

C01B15013

IPC分类号：

代理机构：

杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213

代理人：

吴秉中

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-28	公开	公开
2022-07-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C01B 15/013 申请日:20220412

共 50 条

[1]

一种半导体级过氧化氢水溶液的制备方法 [P].

白秀君 ;

周继业 ;

汪永超 ;

汤磊硼 ;

朱洁洁 .

中国专利 :CN110577195A ,2019-12-17

[2]

一种超纯过氧化氢水溶液的制备方法 [P].

汪永超 ;

白秀君 ;

周继业 .

中国专利 :CN103466557A ,2013-12-25

[3]

生产纯化的过氧化氢水溶液的方法 [P].

田中富士夫 ;

菅原一郎 ;

安达孝 ;

嶺和久 .

中国专利 :CN1171776C ,2002-01-09

[4]

过氧化氢水的精制方法和系统 [P].

闵弘基 ;

徐东锡 ;

李旭 .

韩国专利 :CN119430086A ,2025-02-14

[5]

高纯过氧化氢纯化装置 [P].

李祥庆 .

中国专利 :CN2707735Y ,2005-07-06

[6]

连续化生产超纯过氧化氢的方法 [P].

汤慧 ;

詹家荣 .

中国专利 :CN102556976A ,2012-07-11

[7]

连续法生产超纯过氧化氢的生产装置 [P].

王明 ;

王晶 ;

沈飞 .

中国专利 :CN209853728U ,2019-12-27

[8]

过氧化氢的纯化方法和过氧化氢溶液 [P].

P.齐多维奇 ;

B.雷基耶姆 ;

M.娆弗雷 .

中国专利 :CN113353891A ,2021-09-07

[9]

过氧化氢的纯化方法和过氧化氢溶液 [P].

P.齐多维奇 ;

B.雷基耶姆 ;

M.娆弗雷 .

中国专利 :CN113387331A ,2021-09-14

[10]

高纯过氧化氢的制备方法 [P].

马敬环 ;

唐娜 ;

赵永宏 .

中国专利 :CN1189387C ,2003-09-03

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