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侧墙结构的制造方法、侧墙结构及半导体器件
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910742964.6
申请日：
2019-08-13
公开(公告)号：
CN110504163A
公开(公告)日：
2019-11-26
发明(设计)人：
曹欣雨
曹坚
张亮
申请人：
申请人地址：
201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室
IPC主分类号：
H01L2128
IPC分类号：
H01L21336
代理机构：
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人：
郭四华
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-10-15 | 授权 | 授权 |
| 2019-12-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/28 申请日:20190813 |
| 2019-11-26 | 公开 | 公开 |