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负离子发生装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200310111844.5
申请日
:
2003-10-17
公开(公告)号
:
CN1610200A
公开(公告)日
:
2005-04-27
发明(设计)人
:
欧阳伟
申请人
:
申请人地址
:
361006福建省厦门市湖里天安工业村1号厂房3A
IPC主分类号
:
H01T2300
IPC分类号
:
代理机构
:
厦门市新华专利商标代理有限公司
代理人
:
朱凌
法律状态
:
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2009-04-22
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-12-20
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-04-27
公开
公开
共 50 条
[1]
负离子发生装置
[P].
欧阳伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
欧阳伟
.
中国专利
:CN2699173Y
,2005-05-11
[2]
负离子发生装置
[P].
姜昌焕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
姜昌焕
.
中国专利
:CN106415957A
,2017-02-15
[3]
负离子发生装置
[P].
武田幸一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
武田幸一
.
中国专利
:CN1585221A
,2005-02-23
[4]
负离子发生装置
[P].
武田幸一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
武田幸一
.
中国专利
:CN1551432A
,2004-12-01
[5]
负离子发生装置
[P].
会田贞弘
论文数:
0
引用数:
0
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0
会田贞弘
.
中国专利
:CN2706929Y
,2005-06-29
[6]
负离子发生装置
[P].
巫比娜
论文数:
0
引用数:
0
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0
巫比娜
.
中国专利
:CN206116871U
,2017-04-19
[7]
负离子发生装置
[P].
寺上大辅
论文数:
0
引用数:
0
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0
寺上大辅
.
中国专利
:CN105591286B
,2016-05-18
[8]
负离子发生装置
[P].
张伟楠
论文数:
0
引用数:
0
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0
张伟楠
.
中国专利
:CN300905427D
,2009-04-08
[9]
负离子发生装置
[P].
张伟楠
论文数:
0
引用数:
0
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0
张伟楠
.
中国专利
:CN201088732Y
,2008-07-23
[10]
负离子发生装置
[P].
郭站立
论文数:
0
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0
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郭站立
;
宋晓明
论文数:
0
引用数:
0
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0
宋晓明
.
中国专利
:CN212751407U
,2021-03-19
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