一种高纯铜旋转靶材表面处理的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010323698.6

申请日：

2020-04-22

公开(公告)号：

CN111331518A

公开(公告)日：

2020-06-26

发明(设计)人：

姚力军潘杰边逸军王学泽祝龙飞

申请人：

申请人地址：

315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路

IPC主分类号：

B24C106

IPC分类号：

B24C900 B24C1100

代理机构：

北京远智汇知识产权代理有限公司 11659

代理人：

王岩

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-26	公开	公开
2020-07-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24C 1/06 申请日:20200422

共 50 条

[1]

大尺寸高纯铜旋转靶材的制备方法 [P].

董艳霞 ;

于丙宏 ;

王永胜 ;

张洪 ;

王宏君 ;

张健 ;

张昱 ;

尹城钧 .

中国专利 :CN111604651A ,2020-09-01

[2]

一种高纯铝旋转靶材的制造方法 [P].

周纪平 ;

文宏福 .

中国专利 :CN107953084B ,2018-04-24

[3]

一种3．87m高纯铜旋转靶材的增材制造方法 [P].

谢迎春 ;

陈焕涛 ;

黄仁忠 ;

黄健 ;

况敏 ;

曾良 ;

叶云 ;

王高明 ;

李福海 ;

王昊 .

中国专利 :CN108118326B ,2018-06-05

[4]

一种高纯铜旋转靶的端头焊接方法 [P].

伍温良 .

中国专利 :CN109807453A ,2019-05-28

[5]

一种细晶高纯铜旋转靶材的均匀化制备方法 [P].

孔伟华 ;

屈董 ;

卢燕 .

中国专利 :CN121228182A ,2025-12-30

[6]

一种高纯铜旋转靶的制备方法 [P].

文宏福 ;

吴本明 ;

张中美 .

中国专利 :CN111451314B ,2020-07-28

[7]

一种光学镀膜用高纯铝旋转靶材制备方法 [P].

孔伟华 ;

屈董 ;

卢燕 .

中国专利 :CN121228183A ,2025-12-30

[8]

高纯铜靶材的制备方法 [P].

姚力军 ;

相原俊夫 ;

大岩一彦 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

高建 .

中国专利 :CN103510055A ,2014-01-15

[9]

一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备 [P].

伍温良 .

中国专利 :CN208100042U ,2018-11-16

[10]

一种高纯铜靶材的制备方法 [P].

高岩 ;

李勇军 ;

何金江 ;

曾浩 ;

王欣平 ;

王兴权 .

中国专利 :CN104694888A ,2015-06-10

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