磁头的研磨方法和设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN98115042.X

申请日：

1998-06-19

公开(公告)号：

CN1208912A

公开(公告)日：

1999-02-24

发明(设计)人：

吉原信也进藤宏史山口正雄伊藤善映

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G11B531

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

曹永来;杨松龄

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1999-02-24	公开	公开
2013-08-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101506122095 IPC(主分类):G11B 5/127 专利号:ZL98115042X 申请日:19980619 授权公告日:20041229 终止日期:20120619
1999-11-03	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
2004-12-29	授权	授权

共 50 条

[1]

磁头研磨装置和磁头研磨方法 [P].

小野关善宏 ;

水野亨 ;

山口晴彦 .

中国专利 :CN101028697B ,2007-09-05

[2]

用于研磨磁头的设备和方法 [P].

进藤宏史 ;

阿部彻男 ;

小川昭雄 ;

长谷部次博 .

中国专利 :CN1239278A ,1999-12-22

[3]

磁头滑块的研磨装置和研磨方法 [P].

小林正 ;

阿部清彦 ;

土屋浩康 ;

谭·桑托斯 ;

魏忠献 ;

张春华 ;

李发洪 ;

陈明远 .

中国专利 :CN101543974B ,2009-09-30

[4]

用于研磨磁头滑块的方法和装置 [P].

须藤浩一 ;

竹内光生 .

中国专利 :CN1522833A ,2004-08-25

[5]

用于研磨薄膜磁头的装置和方法 [P].

藤井隆司 ;

松隈裕树 .

中国专利 :CN1612217A ,2005-05-04

[6]

研磨设备和研磨方法 [P].

中西正行 ;

小寺健治 ;

谷中伸拓 .

中国专利 :CN103894919A ,2014-07-02

[7]

表面研磨方法、工件、沉积设备和研磨站 [P].

刘晓刚 ;

黄来国 ;

刘超 ;

李仁杰 ;

权太植 ;

蔡广云 .

中国专利 :CN114346800A ,2022-04-15

[8]

检测薄膜磁头的方法和制造薄膜磁头的方法 [P].

松隈裕树 ;

小桥宗顺 .

中国专利 :CN1584623A ,2005-02-23

[9]

研磨垫及研磨设备和方法 [P].

李瑞杰 ;

林宗贤 ;

吴龙江 ;

辛君 ;

吴孝哲 .

中国专利 :CN107617971B ,2018-01-23

[10]

内部形成有垂直磁头的条杆的研磨方法及其研磨装置 [P].

中洋之 .

中国专利 :CN1819028A ,2006-08-16

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