可记录光学记录介质及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680007574.5

申请日：

2006-11-16

公开(公告)号：

CN101138034A

公开(公告)日：

2008-03-05

发明(设计)人：

佐飞裕一池田悦郎高瀬史则

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G11B724

IPC分类号：

G11B70045 G11B7243 G11B7254 G11B7257 G11B726

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

彭久云;马高平

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-03-05	公开	公开
2014-12-31	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101594120148 IPC(主分类):G11B 7/24 专利号:ZL2006800075745 申请日:20061116 授权公告日:20100616 终止日期:20131116
2010-06-16	授权	授权
2008-04-30	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

可记录光学记录介质及其记录方法 [P].

鸣海慎也 ;

山田胜幸 ;

笹登 ;

林嘉隆 ;

藤井俊茂 ;

藤原将行 ;

加藤将纪 ;

木边刚 ;

甲田卓也 ;

三浦裕司 .

中国专利 :CN101496105B ,2009-07-29

[2]

光学记录介质及其制造方法 [P].

细川哲夫 ;

冈室昭男 .

中国专利 :CN101064139A ,2007-10-31

[3]

光学记录介质及其制造方法 [P].

酒井武光 ;

佐飞裕一 ;

池田悦郎 .

中国专利 :CN101541552A ,2009-09-23

[4]

光学记录介质及其制造方法 [P].

酒井武光 ;

池田悦郎 ;

佐飞裕一 .

中国专利 :CN101541554B ,2009-09-23

[5]

光学记录介质基板及其制造方法、光学记录介质 [P].

中山比吕史 ;

竹本宏之 ;

菊地稔 ;

松浦穗 .

中国专利 :CN103824571B ,2014-05-28

[6]

光学记录介质及光学记录介质的制造方法 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN103578503A ,2014-02-12

[7]

光学记录介质及其制造方法 [P].

猪狩孝洋 .

中国专利 :CN101751951A ,2010-06-23

[8]

光学记录介质及其制造方法 [P].

诹访部正次 ;

中山比吕史 ;

猪狩孝洋 ;

太田辉之 .

中国专利 :CN101894569A ,2010-11-24

[9]

光学记录介质及其制造方法 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN102349106B ,2012-02-08

[10]

光学记录介质及其制造方法 [P].

川口优子 ;

富山盛央 .

中国专利 :CN1692412A ,2005-11-02

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