真空灭弧室的陶瓷外壳及真空灭弧室

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201620690185.8

申请日：

2016-07-04

公开(公告)号：

CN205789698U

公开(公告)日：

2016-12-07

发明(设计)人：

陈进

申请人：

申请人地址：

610500 四川省成都市新都工业东区黄鹤路99号

IPC主分类号：

H01H33664

IPC分类号：

H01H33662

代理机构：

代理人：

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01H 33/664 申请日:20160704 授权公告日:20161207 终止日期:20190704
2016-12-07	授权	授权

共 50 条

[1]

真空灭弧室的外壳及真空灭弧室 [P].

李小钊 ;

赵芳帅 ;

刘世柏 ;

薛从军 ;

李锟 ;

刘心悦 ;

亓春伟 ;

齐大翠 ;

王宇浩 ;

刘畅 ;

姚新伟 ;

李仁峰 ;

刘晶晶 ;

郑乐乐 ;

海竣超 ;

李相兵 ;

苏文豪 ;

郭润涛 ;

白丽娜 ;

孙宇 ;

陈高攀 ;

霍然 ;

汪宁 ;

王茜 .

中国专利 :CN112614734A ,2021-04-06

[2]

真空灭弧室陶瓷外壳 [P].

张金洲 ;

张彤 .

中国专利 :CN305509756S ,2019-12-24

[3]

陶瓷真空灭弧室 [P].

支珊 ;

王启银 ;

尚文 .

中国专利 :CN202996695U ,2013-06-12

[4]

真空灭弧室 [P].

张金伍 ;

吴志明 ;

徐一汉 .

中国专利 :CN202905586U ,2013-04-24

[5]

真空灭弧室的触头及真空灭弧室 [P].

王强 ;

冉隆科 ;

肖红 ;

陈进 .

中国专利 :CN205789697U ,2016-12-07

[6]

真空灭弧室的新型陶瓷外壳 [P].

夏照生 ;

王正录 ;

张桂松 .

中国专利 :CN201435344Y ,2010-03-31

[7]

陶瓷真空灭弧室 [P].

胡国星 ;

何跃 ;

叶小亮 .

中国专利 :CN308799415S ,2024-08-23

[8]

真空灭弧室 [P].

王永法 .

中国专利 :CN202178206U ,2012-03-28

[9]

真空灭弧室 [P].

吴或龙 .

中国专利 :CN204577326U ,2015-08-19

[10]

真空灭弧室 [P].

何跃 ;

朱朝南 .

中国专利 :CN205159199U ,2016-04-13

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