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涂覆液涂覆装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201822227744.3
申请日
:
2018-12-28
公开(公告)号
:
CN209452163U
公开(公告)日
:
2019-10-01
发明(设计)人
:
冈本启一
西乡公史
萩一真
申请人
:
申请人地址
:
日本大阪府
IPC主分类号
:
B05C116
IPC分类号
:
B05C112
B05C108
B05C1302
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
张思宝;岳雪兰
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-10-01
授权
授权
共 50 条
[1]
涂覆头、涂覆组件以及涂覆装置
[P].
曹道聪
论文数:
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机构:
格力电器(南京)有限公司
格力电器(南京)有限公司
曹道聪
;
肖昌芳
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机构:
格力电器(南京)有限公司
格力电器(南京)有限公司
肖昌芳
;
刘克光
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机构:
格力电器(南京)有限公司
格力电器(南京)有限公司
刘克光
;
潘宇
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机构:
格力电器(南京)有限公司
格力电器(南京)有限公司
潘宇
;
佘沈
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机构:
格力电器(南京)有限公司
格力电器(南京)有限公司
佘沈
;
宋华申
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机构:
格力电器(南京)有限公司
格力电器(南京)有限公司
宋华申
.
中国专利
:CN223113419U
,2025-07-18
[2]
涂覆液生成装置及涂覆装置
[P].
神田智一
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神田智一
.
中国专利
:CN108699353A
,2018-10-23
[3]
涂覆装置及涂覆方法
[P].
相良秀一
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相良秀一
.
中国专利
:CN110180744A
,2019-08-30
[4]
涂覆装置及涂覆方法
[P].
濑川大司
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机构:
旭灿纳克株式会社
旭灿纳克株式会社
濑川大司
;
明永裕树
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机构:
旭灿纳克株式会社
旭灿纳克株式会社
明永裕树
;
宫地计二
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机构:
旭灿纳克株式会社
旭灿纳克株式会社
宫地计二
;
星野友
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机构:
旭灿纳克株式会社
旭灿纳克株式会社
星野友
.
日本专利
:CN117861884A
,2024-04-12
[5]
取向液涂覆装置
[P].
王成祥
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王成祥
;
郭东升
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郭东升
;
孟战虎
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孟战虎
;
吴云飞
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吴云飞
.
中国专利
:CN205721005U
,2016-11-23
[6]
涂覆头、涂覆装置及辊涂设备
[P].
李国良
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李国良
;
陈晓亮
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陈晓亮
;
周瑞瑞
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周瑞瑞
;
李成良
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李成良
;
崔俊伟
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崔俊伟
.
中国专利
:CN216396861U
,2022-04-29
[7]
便于硅片涂覆的涂覆装置
[P].
魏兴政
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机构:
济南兰星电子有限公司
济南兰星电子有限公司
魏兴政
;
李浩
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机构:
济南兰星电子有限公司
济南兰星电子有限公司
李浩
.
中国专利
:CN220738270U
,2024-04-09
[8]
涂覆均匀的隔膜涂覆装置
[P].
陈志坚
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陈志坚
;
王晓明
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王晓明
;
兰坤林
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兰坤林
;
伍贤丁
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伍贤丁
.
中国专利
:CN206454848U
,2017-09-01
[9]
涂覆装置
[P].
张雪峰
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机构:
杭州电子科技大学
杭州电子科技大学
张雪峰
;
赵利忠
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机构:
杭州电子科技大学
杭州电子科技大学
赵利忠
;
李建恒
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机构:
杭州电子科技大学
杭州电子科技大学
李建恒
.
中国专利
:CN220547199U
,2024-03-01
[10]
涂覆装置
[P].
陈彩霞
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陈彩霞
;
方祥武
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方祥武
;
欧爱良
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欧爱良
;
王英锋
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王英锋
;
李金辉
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李金辉
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王智会
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王智会
;
张小霞
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张小霞
.
中国专利
:CN204093662U
,2015-01-14
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