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光学层析成像装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200680033380.2
申请日
:
2006-09-07
公开(公告)号
:
CN101262812B
公开(公告)日
:
2008-09-10
发明(设计)人
:
T·尼尔森
T·克勒
申请人
:
申请人地址
:
荷兰艾恩德霍芬
IPC主分类号
:
A61B500
IPC分类号
:
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
:
王英
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2008-09-10
公开
公开
2012-04-25
授权
授权
2020-08-21
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):A61B 5/00 申请日:20060907 授权公告日:20120425 终止日期:20190907
2008-11-26
实质审查的生效
实质审查的生效
共 50 条
[1]
光学层析成像装置
[P].
中路晴雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
中路晴雄
;
福山秀直
论文数:
0
引用数:
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福山秀直
;
矶祐介
论文数:
0
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0
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矶祐介
;
浦山慎一
论文数:
0
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0
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浦山慎一
;
大石直也
论文数:
0
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0
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0
大石直也
;
藤原宏志
论文数:
0
引用数:
0
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0
藤原宏志
.
中国专利
:CN103562705B
,2014-02-05
[2]
漫射光学层析成像
[P].
A·T·J·M·希珀
论文数:
0
引用数:
0
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0
A·T·J·M·希珀
.
中国专利
:CN101621959A
,2010-01-06
[3]
光学相干层析成像装置
[P].
周哲海
论文数:
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0
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周哲海
;
刘国忠
论文数:
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0
刘国忠
.
中国专利
:CN107049258A
,2017-08-18
[4]
光学相干层析成像装置
[P].
山成正宏
论文数:
0
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0
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0
山成正宏
.
中国专利
:CN110057286B
,2019-07-26
[5]
光学相干层析成像装置
[P].
户谷皇太
论文数:
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机构:
株式会社多美
株式会社多美
户谷皇太
;
杉山聪
论文数:
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0
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机构:
株式会社多美
株式会社多美
杉山聪
.
日本专利
:CN117377423A
,2024-01-09
[6]
光学相干层析成像装置
[P].
户谷皇太
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户谷皇太
;
杉山聪
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杉山聪
.
中国专利
:CN114617528A
,2022-06-14
[7]
光学相干层析成像装置
[P].
山成正宏
论文数:
0
引用数:
0
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山成正宏
.
中国专利
:CN110063714A
,2019-07-30
[8]
光学相干层析成像装置
[P].
金法敏
论文数:
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0
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金法敏
;
李尚垣
论文数:
0
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0
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0
李尚垣
.
中国专利
:CN101889188A
,2010-11-17
[9]
光学相干层析成像设备以及光学相干层析成像方法
[P].
太田健史
论文数:
0
引用数:
0
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0
太田健史
.
中国专利
:CN104204775A
,2014-12-10
[10]
光学相干层析成像设备
[P].
克里斯托弗·T·温格
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0
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克里斯托弗·T·温格
;
肯尼思·D·伍德
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0
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肯尼思·D·伍德
;
特伦斯·关
论文数:
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特伦斯·关
;
玛塞勒·V·伯塞科姆
论文数:
0
引用数:
0
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玛塞勒·V·伯塞科姆
.
中国专利
:CN304185397S
,2017-06-20
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