一种用于抛光后计算机硬盘基片的酸洗液组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010023075.3

申请日：

2010-01-21

公开(公告)号：

CN101735895A

公开(公告)日：

2010-06-16

发明(设计)人：

雷红陈入领布乃敬郝萍李虎吴鑫蒋磊

申请人：

申请人地址：

200444 上海市宝山区上大路99号

IPC主分类号：

C11D174

IPC分类号：

C11D172 C11D129 C11D106 C11D360 C11D333 C11D334 C11D328 C11D304

代理机构：

上海上大专利事务所(普通合伙) 31205

代理人：

顾勇华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-09-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101005258905 IPC(主分类):C11D 1/74 专利申请号:2010100230753 申请日:20100121
2016-03-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101650103331 IPC(主分类):C11D 1/74 专利号:ZL2010100230753 申请日:20100121 授权公告日:20120222 终止日期:20150121
2010-06-16	公开	公开
2012-02-22	授权	授权

共 50 条

[1]

计算机硬盘基片抛光后用的清洗剂组合物 [P].

雷红 .

中国专利 :CN102011128B ,2011-04-13

[2]

用于计算机硬盘基片无磨粒抛光液组合物 [P].

雷红 ;

赵蓉 ;

张卫涛 ;

蒋婷 ;

任小艳 .

中国专利 :CN103666282B ,2014-03-26

[3]

用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物 [P].

雷红 .

中国专利 :CN101319320A ,2008-12-10

[4]

计算机硬盘基片抛光速率的控制方法 [P].

刘玉岭 ;

刘长宇 .

中国专利 :CN1861319A ,2006-11-15

[5]

一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液 [P].

雷红 ;

陈入领 ;

吴鑫 ;

布乃敬 ;

李虎 ;

蒋磊 ;

梁敏 .

中国专利 :CN102220087A ,2011-10-19

[6]

用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液 [P].

刘玉岭 ;

刘长宇 ;

牛新环 ;

康静业 .

中国专利 :CN1858133A ,2006-11-08

[7]

计算机硬盘基片粗糙度的控制方法 [P].

郑强 ;

何向涛 .

中国专利 :CN105881190A ,2016-08-24

[8]

计算机硬盘基片粗糙度的控制方法 [P].

刘玉岭 ;

刘长宇 .

中国专利 :CN1864924A ,2006-11-22

[9]

一种计算机硬盘盘基片的精抛光液 [P].

李维民 ;

陈杏辉 .

中国专利 :CN103937414A ,2014-07-23

[10]

一种用于硬盘盘基片的抛光组合物 [P].

潘国顺 ;

周艳 ;

罗桂海 ;

雒建斌 ;

路新春 ;

刘岩 .

中国专利 :CN101463230A ,2009-06-24

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