缺光环境中的荧光成像

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201880084584.1
申请日
2018-12-27
公开(公告)号
CN111526777A
公开(公告)日
2020-08-11
发明(设计)人
D·M·威克恩 J·D·塔尔伯特
申请人
申请人地址
美国波多黎各瓜伊纳沃
IPC主分类号
A61B106
IPC分类号
A61B104 G02B1300 G02B2324
代理机构
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
刘迎春
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
缺光环境中的荧光成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
中国专利 :CN111526776A ,2020-08-11
[2]
缺光环境中的荧光成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
中国专利 :CN111565620A ,2020-08-21
[3]
缺光环境中的超光谱成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
美国专利 :CN111526774B ,2024-11-08
[4]
缺光环境中的超光谱成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
中国专利 :CN111601536A ,2020-08-28
[5]
缺光环境中的超光谱成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
中国专利 :CN111526774A ,2020-08-11
[6]
缺光环境中的荧光成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
中国专利 :CN114173633A ,2022-03-11
[7]
在缺光环境中用工具追踪的超光谱成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
中国专利 :CN111526775A ,2020-08-11
[8]
在缺光环境中用工具追踪的超光谱成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
美国专利 :CN111526775B ,2025-04-11
[9]
缺光环境中的超光谱成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
:CN114175609B ,2024-12-10
[10]
缺光环境中的超光谱成像 [P]. 
J·D·塔尔伯特 ;
D·M·威克恩 .
中国专利 :CN114175609A ,2022-03-11