高清晰度掩模及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200710139911.2
申请日
2007-08-03
公开(公告)号
CN101118376A
公开(公告)日
2008-02-06
发明(设计)人
姜在贤
申请人
申请人地址
韩国首尔
IPC主分类号
G03F100
IPC分类号
代理机构
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人
郑小军
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
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