一种研磨压力可调的浮动研磨装置

被引：0

申请号：

CN202110646538.X

申请日：

2021-06-10

公开(公告)号：

CN115464550A

公开(公告)日：

2022-12-13

发明(设计)人：

袁红亚张宝楼任利杰许炳全叶卫华张皓曹佳宝

申请人：

申请人地址：

215129 江苏省苏州市珠江路501号

IPC主分类号：

B24B3710

IPC分类号：

B24B3712 B24B3734 B24B4104 B24B4100

代理机构：

核工业专利中心 11007

代理人：

刘昕宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-13	公开	公开
2022-12-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/10 申请日:20210610

共 50 条

[1]

一种研磨压力可调的浮动研磨装置 [P].

袁红亚 ;

张宝楼 ;

任利杰 ;

许炳全 ;

叶卫华 ;

张皓 ;

曹佳宝 .

中国专利 :CN215433153U ,2022-01-07

[2]

一种研磨压力可调的研磨装置及研磨方法 [P].

邹立伟 ;

严江 ;

徐鹏举 .

中国专利 :CN120619969A ,2025-09-12

[3]

一种可调压力研磨式定位研磨装置 [P].

张彪 ;

阙忠鑫 ;

王肖建 .

中国专利 :CN216298919U ,2022-04-15

[4]

一种研磨角度可调的研磨装置 [P].

林乐书 ;

彭帅姣 .

中国专利 :CN221230706U ,2024-06-28

[5]

一种研磨精度可调的研磨装置 [P].

丁龙 ;

袁清扬 .

中国专利 :CN213254743U ,2021-05-25

[6]

一种浮动研磨装置 [P].

张文俊 ;

夏亮 .

中国专利 :CN205380524U ,2016-07-13

[7]

一种可调节研磨半径的研磨装置 [P].

彭敏 .

中国专利 :CN108544363A ,2018-09-18

[8]

一种可调节研磨精度的研磨装置及其研磨方法 [P].

李倩 ;

卫青化 ;

赵道一 .

中国专利 :CN114733619A ,2022-07-12

[9]

一种可连续调节研磨压力的研磨装置 [P].

顾明凯 ;

程进 ;

任宝凯 ;

厉军明 ;

张春倩 ;

王伟民 ;

赵延洁 .

中国专利 :CN114178977A ,2022-03-15

[10]

一种可调式研磨装置 [P].

李志 .

中国专利 :CN214685941U ,2021-11-12

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