颗粒测量装置和颗粒测量方法

被引：0

申请号：

CN202180005328.0

申请日：

2021-03-03

公开(公告)号：

CN114424044A

公开(公告)日：

2022-04-29

发明(设计)人：

坂东和奈近藤郁田渊拓哉近藤聪太

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G01N1502

IPC分类号：

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

吕琳;朴秀玉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-29	公开	公开

共 50 条

[1]

颗粒测量装置和颗粒测量方法 [P].

坂东和奈 ;

近藤郁 ;

田渊拓哉 ;

近藤聪太 .

日本专利 :CN114424044B ,2025-12-30

[2]

纳米颗粒直径测量装置以及纳米颗粒直径测量方法 [P].

杨晖 ;

杨海马 ;

孔平 ;

郑刚 ;

于小强 ;

宋磊磊 .

中国专利 :CN103424080B ,2013-12-04

[3]

流式成像颗粒测量装置及其测量方法 [P].

朱险峰 .

中国专利 :CN1651898A ,2005-08-10

[4]

颗粒浓度测量装置、颗粒浓度测量程序以及颗粒浓度测量方法 [P].

饭永一也 .

中国专利 :CN112867439A ,2021-05-28

[5]

动态偏振光散射颗粒测量装置及测量方法 [P].

杨晖 ;

郑刚 ;

戴曙光 .

中国专利 :CN101699265A ,2010-04-28

[6]

测量装置和测量方法 [P].

胁田能宏 ;

相泽耕太 ;

五十岚崇裕 .

中国专利 :CN115315213A ,2022-11-08

[7]

粒子测量装置和粒子测量方法 [P].

近藤郁 ;

田渕拓哉 ;

坂东和奈 ;

加藤晴久 ;

松浦有祐 .

中国专利 :CN110573855B ,2019-12-13

[8]

颗粒测量方法和设备 [P].

尤哈·蒂卡宁 .

中国专利 :CN101960288A ,2011-01-26

[9]

颗粒粒径的直接测量方法和测量装置 [P].

李栋 ;

顾雪梅 .

中国专利 :CN1084967A ,1994-04-06

[10]

单颗粒反应测量装置及测量方法 [P].

于广锁 ;

龚岩 ;

郭庆华 ;

祝慧雯 ;

薛志村 ;

梁钦锋 ;

王亦飞 ;

王辅臣 ;

龚欣 ;

刘海峰 ;

许建良 ;

代正华 ;

陈雪莉 ;

李伟锋 ;

郭晓镭 ;

王兴军 ;

陆海峰 ;

赵辉 ;

刘霞 .

中国专利 :CN109870539A ,2019-06-11

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