含多组分氧化物的增强的溅射靶合金组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510114066.4

申请日：

2005-10-18

公开(公告)号：

CN1952207A

公开(公告)日：

2007-04-25

发明(设计)人：

迈克尔·吉恩·拉辛安尼尔班·戴斯史蒂文·罗杰·肯尼迪程远达

申请人：

申请人地址：

美国亚利桑那州

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

樊卫民;杨青

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-07-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-04-25	公开	公开
2010-02-24	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[1]

增强的含氧化物溅射靶合金组合物 [P].

迈克尔·吉恩·拉辛 ;

阿尼班·达斯 ;

史蒂文·罗杰·肯尼迪 ;

郑京 .

中国专利 :CN1880501A ,2006-12-20

[2]

多组分氧化物的溅射靶材及其制造方法 [P].

陈科 ;

肖田 .

中国专利 :CN101748363A ,2010-06-23

[3]

氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法 [P].

陆田雄也 ;

梅本启太 .

中国专利 :CN114616218A ,2022-06-10

[4]

氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法 [P].

野中荘平 ;

森理恵 ;

长尾昌芳 .

中国专利 :CN110352263A ,2019-10-18

[5]

氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法 [P].

梅本启太 ;

陆田雄也 ;

白井孝典 ;

井尾谦介 .

中国专利 :CN112567065A ,2021-03-26

[6]

增强的溅射靶合金组合物 [P].

阿卜杜勒－瓦哈卜·齐亚尼 ;

程远达 ;

贝恩德·孔克尔 ;

迈克尔·巴托洛梅乌斯 .

中国专利 :CN1712551A ,2005-12-28

[7]

含碳的溅射靶合金组合物 [P].

阿卜杜勒瓦哈卜·齐亚尼 ;

迈克尔·莱思罗普 ;

弗朗索瓦·C·达里 .

中国专利 :CN1807679A ,2006-07-26

[8]

氧化物溅射靶 [P].

山口刚 ;

木内香歩 ;

陆田雄也 .

中国专利 :CN114127029A ,2022-03-01

[9]

In·Sm氧化物系溅射靶 [P].

井上一吉 ;

田中信夫 ;

笘井重和 ;

松原雅人 ;

海上晓 ;

矢野公规 .

中国专利 :CN101223296A ,2008-07-16

[10]

氧化物溅射靶材 [P].

玉田悠 ;

齐藤和也 ;

上坂修治郎 ;

熊谷友正 .

中国专利 :CN106435492A ,2017-02-22

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