一种电致发光器件工况原位分析系统及分析方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010773243.4
申请日
2020-08-04
公开(公告)号
CN112067963A
公开(公告)日
2020-12-11
发明(设计)人
邓云洲 金一政
申请人
申请人地址
310013 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
IPC主分类号
G01R3126
IPC分类号
G01R31265
代理机构
杭州天勤知识产权代理有限公司 33224
代理人
彭剑;胡红娟
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种电致发光器件的膜层分析方法 [P]. 
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彭于航 ;
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[2]
一种电致发光器件、显示装置及电致发光器件制造方法 [P]. 
郝艳军 ;
文官印 ;
李彦松 ;
杜小波 ;
吴淞全 ;
左鹏飞 ;
屈财玉 .
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[3]
一种电致发光阳极、电致发光器件及其制备方法 [P]. 
周明杰 ;
王平 ;
黄辉 ;
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[4]
发光薄膜及制备方法、电致发光器件 [P]. 
钟海政 ;
韩登宝 ;
王辰晖 ;
常帅 ;
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[5]
一种电致发光器件 [P]. 
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[6]
一种电致发光器件 [P]. 
代志洪 ;
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[7]
一种电致发光器件 [P]. 
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[8]
一种电致发光器件 [P]. 
黄根茂 ;
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闵超 ;
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[9]
一种电致发光器件 [P]. 
张翠芳 ;
潘雅琴 ;
王静 ;
邝志远 ;
夏传军 .
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[10]
一种电致发光器件 [P]. 
王乐 ;
邝志远 ;
王强 ;
张晗 ;
王俊飞 ;
谢梦兰 ;
夏传军 .
中国专利 :CN114613924A ,2022-06-10