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光场成像系统的校准
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202080012161.6
申请日：
2020-01-29
公开(公告)号：
CN113412441A
公开(公告)日：
2021-09-17
发明(设计)人：
马库斯·鲍姆加特
蒂博尔·拜赖茨基
亚克·普里博斯克
扬·施泰因布伦纳
安德烈亚斯·托尔特沙诺夫
申请人：
申请人地址：
奥地利哈莱恩
IPC主分类号：
G02B2136
IPC分类号：
G06T7557
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
李彦伯;龙涛峰
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-09-17 | 公开 | 公开 |
| 2022-02-08 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 21/36 申请日:20200129 |