氧还原催化剂层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780014030.6

申请日：

2007-02-23

公开(公告)号：

CN101427404A

公开(公告)日：

2009-05-06

发明(设计)人：

丹尼斯·P·奥’布恩艾莉森·K·施默克尔乔治·D·韦恩斯特伦拉多斯拉夫·阿塔纳索斯基托马斯·E·伍德杨瑞枝 E·布雷德利·伊顿杰弗里·R·达恩大卫·G·欧’内尔

申请人：

申请人地址：

美国明尼苏达州

IPC主分类号：

H01M486

IPC分类号：

H01M490

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

郇春艳;樊卫民

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-07-01	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-05-06	公开	公开
2011-05-25	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101093476396 IPC(主分类):H01M 4/86 专利申请号:2007800140306 公开日:20090506

共 50 条

[1]

制备氧还原催化剂层的方法 [P].

丹尼斯·P·奥’布赖恩 ;

艾莉森·K·施默克尔 ;

乔治·D·韦恩斯特伦 ;

拉多斯拉夫·阿塔纳索斯基 ;

托马斯·E·伍德 ;

大卫·G·欧’内尔 .

中国专利 :CN101427405A ,2009-05-06

[2]

氧还原催化剂 [P].

手冢记庸 ;

今井卓也 ;

吉村真幸 ;

大森将弘 .

中国专利 :CN106457211A ,2017-02-22

[3]

氧还原催化剂 [P].

李建灿 ;

大和祯则 ;

太田健一郎 ;

石原显光 .

中国专利 :CN110072615B ,2019-07-30

[4]

氧还原催化剂 [P].

李建灿 ;

大和祯则 ;

太田健一郎 ;

石原显光 .

中国专利 :CN110062652A ,2019-07-26

[5]

氧还原催化剂及其制造方法 [P].

太田健一郎 ;

石原显光 ;

光岛重德 ;

滨崎真 .

中国专利 :CN106132535A ,2016-11-16

[6]

氧还原催化剂及其制备方法 [P].

太田健一郎 ;

石原显光 ;

光岛重德 ;

松泽幸一 ;

浮田惠佑 ;

今井秀人 ;

松本匡史 ;

宫崎孝 .

中国专利 :CN103476494A ,2013-12-25

[7]

氧还原催化剂及其用途 [P].

伊藤祐司 ;

阪口隼也 ;

今井卓也 ;

门田隆二 ;

吉村真幸 .

中国专利 :CN105377423A ,2016-03-02

[8]

氧还原反应催化剂 [P].

杨俊 ;

徐淳川 ;

帕特里克·皮埃特瑞兹 ;

凯莉·加思 ;

本杰明·佩恩斯 ;

马克·约翰·贾格尔 ;

詹姆士·瓦尔德克 ;

平野伸一 ;

迈克尔·艾伦·塔摩 .

中国专利 :CN105226299A ,2016-01-06

[9]

电化学氧还原催化剂 [P].

大久保庆一 .

日本专利 :CN120784389A ,2025-10-14

[10]

氧还原催化剂的制备方法 [P].

贾志勇 .

中国专利 :CN114744216A ,2022-07-12

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