酞菁系配位化合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680009514.0

申请日：

2016-02-09

公开(公告)号：

CN107207873B

公开(公告)日：

2017-09-26

发明(设计)人：

岩田亮介石井康久水野干久

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C09B4712

IPC分类号：

C07D48722 C07F108 C07F306 C09B4724

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

齐雪娇;金玉兰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09B 47/12 申请日:20160209
2019-11-01	授权	授权
2017-09-26	公开	公开

共 50 条

[1]

酞菁系化合物、及其用途 [P].

高坂明宏 ;

佐佐木浩之 ;

熊谷洋二郎 .

中国专利 :CN110494501B ,2019-11-22

[2]

酞菁化合物 [P].

武藤豪志 .

中国专利 :CN102471601B ,2012-05-23

[3]

酞菁化合物 [P].

增田清司 ;

青木正矩 ;

新宫原晃士 .

中国专利 :CN102575110A ,2012-07-11

[4]

金属酞菁化合物的制造方法及金属酞菁化合物 [P].

藤江贺彦 .

中国专利 :CN104045644A ,2014-09-17

[5]

酞菁化合物,制备该酞菁化合物的方法以及含有该酞菁化合物的光记录介质 [P].

清野和浩 ;

中川真一 ;

三泽传美 ;

木下智之 ;

高坂明宏 ;

寺尾博 ;

熊谷洋二郎 .

中国专利 :CN1304486C ,2005-06-29

[6]

金属氧酞菁化合物 [P].

J·S·坎贝尔 ;

K·卡尔 ;

R·J·格里菲思斯 .

中国专利 :CN100345912C ,2005-10-05

[7]

π配位化合物 [P].

K·H·A·奥斯托亚斯塔泽斯基 ;

W·M·凯利 ;

P·舍尔特 .

中国专利 :CN1284960A ,2001-02-21

[8]

顺磁性金属－酞菁配位化合物和使用其的造影剂 [P].

李承泳 ;

具教妊 .

中国专利 :CN1487947A ,2004-04-07

[9]

酞菁化合物及其制造方法、以及含有该酞菁化合物的着色组合物 [P].

近藤仁 ;

佐野义之 ;

立川丰 .

中国专利 :CN102596966A ,2012-07-18

[10]

酞菁化合物及其制造方法、以及含有该酞菁化合物的着色组合物 [P].

永田美彰 .

中国专利 :CN101120057B ,2008-02-06

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