一种多孔减磨涂层孔隙率的控制方法

被引：0

申请号：

CN202211156317.5

申请日：

2022-09-22

公开(公告)号：

CN115491631A

公开(公告)日：

2022-12-20

发明(设计)人：

郭孟秋张昂王长亮杜修忻

申请人：

申请人地址：

100095 北京市海淀区温泉镇环山村

IPC主分类号：

C23C4134

IPC分类号：

C23C406

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

赵青朵

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 4/134 申请日:20220922
2022-12-20	公开	公开

共 50 条

[1]

一种多孔减磨涂层孔隙率的控制方法 [P].

郭孟秋 ;

张昂 ;

王长亮 ;

杜修忻 .

中国专利 :CN115491631B ,2024-09-17

[2]

一种热障涂层孔隙率的控制方法 [P].

白宇 ;

韩志海 ;

赵蕾 ;

王玉 ;

付倩倩 ;

强永明 .

中国专利 :CN104032255B ,2014-09-10

[3]

一种高硬度、低孔隙率镍铬-碳化铬涂层的制备方法 [P].

周权 ;

陆山 ;

张彦飞 ;

王国成 ;

司锐 ;

吴博 .

中国专利 :CN104087888B ,2014-10-08

[4]

一种低孔隙率氧化钇涂层的制备方法 [P].

余宜璠 ;

陈立航 ;

梁福坤 ;

肖金 ;

杨佐东 .

中国专利 :CN114015967A ,2022-02-08

[5]

一种孔隙率可控的多孔纳米金属制备方法 [P].

雷燕 ;

线跃辉 ;

蔡耀 ;

杨兵 .

中国专利 :CN108326306A ,2018-07-27

[6]

一种特殊镀层孔隙率测试方法 [P].

郭昊 .

中国专利 :CN117554259A ,2024-02-13

[7]

一种用于热障涂层孔隙率调控与强度补充的材料及方法 [P].

金国 ;

房永超 ;

崔秀芳 ;

刘二宝 ;

张丹 ;

温鑫 .

中国专利 :CN110551963B ,2019-12-10

[8]

一种制备高孔隙率多孔碳化硅陶瓷的方法 [P].

时利民 ;

赵宏生 ;

唐春和 ;

闫迎辉 ;

梁彤祥 .

中国专利 :CN100395211C ,2005-11-23

[9]

一种高孔隙率堇青石多孔陶瓷及其制备方法 [P].

李远兵 ;

李鑫 ;

黄柯柯 ;

周琪润 ;

李淑静 ;

向若飞 ;

徐娜娜 .

中国专利 :CN107010989A ,2017-08-04

[10]

一种高孔隙率多孔炭及其制备方法和应用 [P].

邹智敏 ;

姜春海 .

中国专利 :CN110255557A ,2019-09-20

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