一种应用于高分子材料表面改性的辉光放电等离子体生成装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201920353724.2

申请日：

2019-03-20

公开(公告)号：

CN211240243U

公开(公告)日：

2020-08-11

发明(设计)人：

刘文正陈晓中

申请人：

申请人地址：

408100 重庆市涪陵区新城区鹤凤大道19号

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

D06M1002

代理机构：

重庆百润洪知识产权代理有限公司 50219

代理人：

陈付玉

法律状态：

授权

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-08-11	授权	授权

共 50 条

[1]

一种应用于高分子材料表面改性的辉光等离子体生成装置 [P].

刘文正 ;

陈晓中 .

中国专利 :CN109803480A ,2019-05-24

[2]

用于高分子材料表面改性的辉光等离子体生成装置 [P].

刘文正 ;

祝莉莹 ;

陈晓中 ;

赵潞翔 .

中国专利 :CN108882493B ,2018-11-23

[3]

高分子材料表面改性等离子体处理装置 [P].

王红卫 .

中国专利 :CN2673629Y ,2005-01-26

[4]

一种高分子材料表面改性等离子体处理装置 [P].

王红卫 .

中国专利 :CN202318981U ,2012-07-11

[5]

一种辉光放电等离子体生成装置 [P].

刘文正 ;

马传龙 ;

李治一 ;

赵潞翔 .

中国专利 :CN106954332A ,2017-07-14

[6]

一种对玻璃及高分子材料表面改性的大气压沿面放电等离子体装置 [P].

李寿哲 ;

叶福莉 .

中国专利 :CN104556735B ,2015-04-29

[7]

一种基于空气辉光放电等离子体的材料表面处理装置 [P].

赵潞翔 ;

刘文正 ;

徐旻 ;

黄烨 ;

郑擎天 .

中国专利 :CN110402007B ,2019-11-01

[8]

冷等离子体对各类高分子材料进行表面改性的装置 [P].

胡建芳 ;

吴萍 .

中国专利 :CN2598741Y ,2004-01-14

[9]

一种高分子材料表面改性等离子体处理方法及其装置 [P].

王红卫 .

中国专利 :CN103057133A ,2013-04-24

[10]

用于高分子材料进行等离子体表面改性的装置和方法 [P].

後晓淮 ;

胡建芳 ;

吴萍 .

中国专利 :CN1526753A ,2004-09-08

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