还原剂喷射控制系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410527843.7

申请日：

2014-09-30

公开(公告)号：

CN104675481A

公开(公告)日：

2015-06-03

发明(设计)人：

斯瑞瓦德汉·钱德拉帕蒂柴永全斯特芬·M·霍尔张述

申请人：

申请人地址：

美国印第安纳州

IPC主分类号：

F01N320

IPC分类号：

代理机构：

深圳中一专利商标事务所 44237

代理人：

仉玉新

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-08-08	授权	授权
2016-06-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101664540478 IPC(主分类):F01N 3/20 专利申请号:2014105278437 申请日:20140930
2015-06-03	公开	公开

共 50 条

[1]

还原剂喷射控制系统 [P].

迈克尔·戈林 ;

约翰·德乔治 ;

郑贯宇 ;

阿达姆·J·科特尔巴 .

中国专利 :CN104822914B ,2015-08-05

[2]

排放控制系统和还原剂喷射器 [P].

张小钢 .

中国专利 :CN107269354B ,2017-10-20

[3]

排放控制系统和还原剂喷射器 [P].

张小钢 .

中国专利 :CN107725154A ,2018-02-23

[4]

一种用于SCR系统的还原剂喷射控制系统和方法 [P].

杨新伟 ;

郭江峰 ;

李达 ;

赵云辉 ;

陈瑞侃 .

中国专利 :CN117365712A ,2024-01-09

[5]

还原剂喷射的排放控制系统 [P].

王元东 .

中国专利 :CN203223277U ,2013-10-02

[6]

喷射还原剂的方法 [P].

约瑟夫·帕特森 ;

保罗·M·兰恩 .

中国专利 :CN101418713B ,2009-04-29

[7]

还原喷射控制系统 [P].

迈克尔·L·肖维尔斯 ;

瑞安·A·弗洛伊德 ;

詹姆士·J·雷诺兹三世 ;

约瑟夫·G·拉尔夫 .

中国专利 :CN103717850A ,2014-04-09

[8]

还原剂喷射喷嘴和还原剂计量系统 [P].

赖纳·罗茨海姆 ;

比约恩·贝克曼 .

德国专利 :CN120608758A ,2025-09-09

[9]

还原剂喷射系统的诊断 [P].

米切尔·J·范·纽斯塔特 .

中国专利 :CN101424205B ,2009-05-06

[10]

用于控制还原剂的配量的方法和控制系统 [P].

C·伦德贝里 .

中国专利 :CN112041545B ,2020-12-04

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