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投射光学系统和投影仪
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010597110.6
申请日：
2020-06-28
公开(公告)号：
CN112147833B
公开(公告)日：
2020-12-29
发明(设计)人：
峯藤延孝
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03B2114
IPC分类号：
G02B1300
G02B1318
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
李庆泽;邓毅
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-04-12 | 授权 | 授权 |
| 2020-12-29 | 公开 | 公开 |
| 2021-01-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03B 21/14 申请日:20200628 |