溅镀靶材组件

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201490000406.3

申请日：

2014-01-17

公开(公告)号：

CN205275690U

公开(公告)日：

2016-06-01

发明(设计)人：

细川昭弘 J·M·怀特任东吉

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

H01L21203

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

黄嵩泉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-06-01	授权	授权

共 50 条

[1]

溅镀靶材和溅镀靶 [P].

田尾幸树 ;

畠英雄 .

中国专利 :CN111465713B ,2020-07-28

[2]

溅镀靶材 [P].

黄民育 ;

张廖万民 ;

陈志豪 ;

韩中明 .

中国专利 :CN212505048U ,2021-02-09

[3]

溅镀靶材 [P].

池田真 .

中国专利 :CN105358734B ,2016-02-24

[4]

溅镀靶材 [P].

丸子智弘 ;

鈴木雄 ;

大友将平 ;

中村紘暢 .

中国专利 :CN114127330A ,2022-03-01

[5]

溅镀靶材 [P].

朱冠宇 ;

黄敬佩 ;

陈逸书 ;

林昆锋 .

中国专利 :CN101063193A ,2007-10-31

[6]

溅镀靶材 [P].

加藤和照 ;

久保田高史 ;

木村浩 ;

松浦宜范 ;

松崎健嗣 .

中国专利 :CN1878886A ,2006-12-13

[7]

溅镀靶材 [P].

丸子智弘 ;

鈴木雄 ;

大友将平 ;

中村紘暢 .

中国专利 :CN114127328A ,2022-03-01

[8]

溅镀靶材 [P].

丸子智弘 ;

鈴木雄 ;

大友将平 ;

中村紘暢 .

日本专利 :CN114127329B ,2024-08-02

[9]

溅镀靶材 [P].

迈克尔·艾登贝格-肖伯 ;

乔格·温克勒 ;

迈克尔·欧苏利文 .

中国专利 :CN109790617A ,2019-05-21

[10]

溅镀靶材 [P].

丸子智弘 ;

鈴木雄 ;

大友将平 ;

中村紘暢 .

中国专利 :CN114127329A ,2022-03-01

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