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X射线摄影装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010115571.5
申请日：
2020-02-25
公开(公告)号：
CN111728624A
公开(公告)日：
2020-10-02
发明(设计)人：
吉田光毅
竹泽秀孝
大久保翔平
申请人：
申请人地址：
日本京都府
IPC主分类号：
A61B600
IPC分类号：
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-10-02 | 公开 | 公开 |
| 2020-10-30 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 6/00 申请日:20200225 |