一种结构信息融合的电阻抗断层成像方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200910022777.7
申请日
2009-06-01
公开(公告)号
CN101564294B
公开(公告)日
2009-10-28
发明(设计)人
董秀珍 付峰 徐灿华 刘锐岗 史学涛 尤富生
申请人
申请人地址
710038 陕西省西安市长乐中路17号
IPC主分类号
A61B5053
IPC分类号
代理机构
西安通大专利代理有限责任公司 61200
代理人
张震国
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种电阻抗断层成像方法 [P]. 
吕志让 .
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[2]
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约瑟夫克斯·X·布伦纳 ;
帕斯卡尔·奥利维尔·加格罗 ;
尼古拉斯·罗比塔耶 .
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[3]
一种电阻抗断层成像方法 [P]. 
汤孟兴 ;
董秀珍 ;
秦明新 ;
尤富生 ;
刘锐岗 ;
史学涛 ;
付峰 .
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[4]
磁共振电阻抗断层成像方法 [P]. 
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宋涛 ;
王玉宇 ;
何永波 .
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[5]
用于电阻抗断层成像的方法 [P]. 
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T.加卢斯 .
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[6]
电阻抗断层成像设备 [P]. 
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洪善珠 .
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[7]
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尤富生 ;
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张国栋 ;
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[8]
一种电阻抗断层成像电极的接触阻抗校准方法 [P]. 
尤富生 ;
李蔚琛 ;
张国栋 ;
朱燕 .
中国专利 :CN114052702A ,2022-02-18
[9]
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宣和均 ;
石崇源 ;
宣徐伟 .
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[10]
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马结实 ;
李洋 ;
段傲文 ;
张和华 .
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