光学元件、具有该光学元件的扫描光学系统以及图像形成设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02824642.X

申请日：

2002-12-03

公开(公告)号：

CN1602433B

公开(公告)日：

2005-03-30

发明(设计)人：

木村一己

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B518

IPC分类号：

G02B111 G02B1300 G02B2610

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

党建华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效
2018-11-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/18 申请日:20021203 授权公告日:20110601 终止日期:20171203
2005-03-30	公开	公开
2011-06-01	授权	授权

共 50 条

[1]

光学元件、具有它的扫描光学系统及图象形成设备 [P].

木村一己 .

中国专利 :CN1388385A ,2003-01-01

[2]

光学元件、具有该光学元件的光学系统及应用该光学元件的内窥镜 [P].

研野孝吉 .

中国专利 :CN101688969A ,2010-03-31

[3]

透射光学元件以及使用该透射光学元件的光学系统 [P].

研野孝吉 .

中国专利 :CN101484834A ,2009-07-15

[4]

光学元件以及光学系统、光学装置 [P].

须永敏弘 .

中国专利 :CN100437204C ,2005-10-05

[5]

光学元件、光学系统以及光学装置 [P].

佐藤拙 .

中国专利 :CN114846381A ,2022-08-02

[6]

光学元件、光学系统、以及光学装置 [P].

宫坂浩司 .

中国专利 :CN112470043A ,2021-03-09

[7]

光学元件、使用该光学元件的光学系统及光学装置 [P].

奥野丈晴 ;

石松理绘 .

中国专利 :CN102901996A ,2013-01-30

[8]

衍射光学元件、光学系统以及光学设备 [P].

籔本洋 .

中国专利 :CN111615649B ,2020-09-01

[9]

光学元件和包括光学元件的光学系统 [P].

古贺悠修 .

中国专利 :CN108700683A ,2018-10-23

[10]

光学元件、光学系统及使用该光学系统的内窥镜 [P].

研野孝吉 .

中国专利 :CN102798903A ,2012-11-28

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