具有相变层的光记录介质和该光记录介质的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610114810.5

申请日：

2003-06-06

公开(公告)号：

CN1941124A

公开(公告)日：

2007-04-04

发明(设计)人：

柳寅儆郑守桓金仁淑

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

G11B724

IPC分类号：

G11B726 B32B300

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

宋莉;贾静环

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-04-04	公开	公开
2009-10-21	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-05-30	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

具有相变层的光记录介质和该光记录介质的制备方法 [P].

柳寅儆 ;

郑守桓 ;

金仁淑 .

中国专利 :CN1501377A ,2004-06-02

[2]

用于光记录介质的记录层和光记录介质 [P].

曽根康宏 .

中国专利 :CN111788630B ,2020-10-16

[3]

用于光记录介质的记录层和光记录介质 [P].

曾根康宏 .

中国专利 :CN105793056A ,2016-07-20

[4]

光记录介质和光记录介质的制造方法 [P].

太田阳 ;

高川繁树 ;

内山浩 .

中国专利 :CN103544969A ,2014-01-29

[5]

光记录介质和制造光记录介质的方法 [P].

井上弘康 ;

柿内宏宪 ;

青岛正贵 ;

三岛康儿 .

中国专利 :CN1497564A ,2004-05-19

[6]

光记录介质和光记录介质的制造方法 [P].

坂本哲洋 ;

宫本浩孝 ;

竹本祯广 ;

山津久行 .

中国专利 :CN102576556A ,2012-07-11

[7]

光记录介质和制造光记录介质的方法 [P].

Ｔ·柏木 ;

Ｍ·古木 ;

Ｓ·福地 ;

Ｙ·柳泽 .

中国专利 :CN1091922C ,1997-01-29

[8]

相变光记录介质 [P].

大间知范威 ;

市原胜太郎 ;

柚须圭一郎 ;

芦田纯生 ;

中村直正 ;

塚本隆之 .

中国专利 :CN1494072A ,2004-05-05

[9]

光记录介质和光记录介质的制造方法 [P].

柏木俊行 ;

秋元义浩 ;

齐藤公博 ;

斋藤昭也 .

中国专利 :CN103069488A ,2013-04-24

[10]

相变型光记录介质的设计方法及相变型光记录介质 [P].

铃木淑男 ;

森本勋 .

中国专利 :CN1212781A ,1999-03-31

← 1 2 3 4 5 →