带电粒子束照射系统和带电粒子束照射系统的运转方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510160689.9

申请日：

2015-04-07

公开(公告)号：

CN104971443B

公开(公告)日：

2015-10-14

发明(设计)人：

冈崎贵美子西内秀晶森山国夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H05H1304

IPC分类号：

A61N510

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

曾贤伟;郝庆芬

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-10-14	公开	公开
2015-11-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101633317827 IPC(主分类):A61N 5/10 专利申请号:2015101606899 申请日:20150407
2018-01-05	授权	授权

共 50 条

[1]

带电粒子束照射系统以及带电粒子束照射计划方法 [P].

佐佐井健蔵 ;

西尾祯治 .

中国专利 :CN103945901A ,2014-07-23

[2]

带电粒子束照射系统 [P].

矢岛晓 .

中国专利 :CN103957996A ,2014-07-30

[3]

带电粒子束照射系统 [P].

山口乔 ;

水谷昌平 ;

荒屋正幸 ;

须釜裕也 .

中国专利 :CN115006738A ,2022-09-06

[4]

带电粒子束照射系统 [P].

原洋介 ;

久保田佳树 ;

蓑原伸一 .

日本专利 :CN119947790A ,2025-05-06

[5]

带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序 [P].

桔正则 .

中国专利 :CN102380171A ,2012-03-21

[6]

带电粒子束照射控制装置及带电粒子束照射方法 [P].

西尾祯治 ;

立川敏树 .

中国专利 :CN102397628B ,2012-04-04

[7]

带电粒子束照射位置的校正程序、带电粒子束照射位置的校正量运算装置、带电粒子束照射系统、带电粒子束照射位置的校正方法 [P].

大川洋平 ;

小泽英则 .

中国专利 :CN105027260A ,2015-11-04

[8]

带电粒子束照射装置 [P].

佐佐井健蔵 .

中国专利 :CN103458964B ,2013-12-18

[9]

带电粒子束照射装置 [P].

小笠原毅 .

中国专利 :CN103563007A ,2014-02-05

[10]

带电粒子束照射装置 [P].

佐佐井健蔵 .

中国专利 :CN113470863A ,2021-10-01

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