等离子体处理装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010139852.0
申请日
2010-03-30
公开(公告)号
CN101853764A
公开(公告)日
2010-10-06
发明(设计)人
舆水地盐
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
H01J3730 H01J3704
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇;陈立航
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理装置 [P]. 
桧森慎司 ;
林大辅 ;
清水昭贵 .
中国专利 :CN102110574B ,2011-06-29
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
东条利洋 ;
藤井祐希 .
中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
丸山幸儿 ;
堀口将人 ;
松木哲理 ;
舆石公 .
中国专利 :CN105379428B ,2016-03-02
[4]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
本田昌伸 .
中国专利 :CN102209426B ,2011-10-05
[5]
等离子体处理装置和等离子体产生装置 [P]. 
加藤寿 ;
三浦繁博 .
中国专利 :CN103805968A ,2014-05-21
[6]
等离子体处理装置 [P]. 
阿部寿治 ;
高桥俊树 ;
松浦广行 .
中国专利 :CN100474526C ,2007-08-01
[7]
等离子体处理装置 [P]. 
山泽阳平 ;
古屋敦城 .
中国专利 :CN108476584B ,2018-08-31
[8]
等离子体处理装置 [P]. 
泽田郁夫 ;
P·芬泽克 ;
大下辰郎 ;
松崎和爱 ;
康松润 .
中国专利 :CN101601125B ,2009-12-09
[9]
等离子体处理装置 [P]. 
山岸幸司 ;
池田宽 ;
近藤宽之 .
中国专利 :CN113394069A ,2021-09-14
[10]
等离子体处理装置 [P]. 
林大辅 .
中国专利 :CN102110573A ,2011-06-29