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荧光强度校正方法、荧光强度计算方法及计算装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110101152.7
申请日
:
2011-04-21
公开(公告)号
:
CN102235976A
公开(公告)日
:
2011-11-09
发明(设计)人
:
加藤泰信
酒井启嗣
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
G01N2164
IPC分类号
:
代理机构
:
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
:
李丙林;张英
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-10-14
授权
授权
2011-11-09
公开
公开
2013-04-17
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101439318058 IPC(主分类):G01N 21/64 专利申请号:2011101011527 申请日:20110421
共 50 条
[1]
荧光强度校正方法和荧光强度计算装置
[P].
加藤泰信
论文数:
0
引用数:
0
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0
加藤泰信
;
酒井启嗣
论文数:
0
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0
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0
酒井启嗣
.
中国专利
:CN102313724B
,2012-01-11
[2]
荧光强度校正方法、校正程序、计算方法和计算装置
[P].
酒井启嗣
论文数:
0
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0
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0
酒井启嗣
.
中国专利
:CN102410879B
,2015-07-08
[3]
荧光强度补偿方法及荧光强度计算装置
[P].
酒井启嗣
论文数:
0
引用数:
0
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0
酒井启嗣
.
中国专利
:CN102435313A
,2012-05-02
[4]
荧光强度计算方法、装置、系统、计算机设备和存储介质
[P].
杨姗
论文数:
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0
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0
机构:
浙江华诺康科技有限公司
浙江华诺康科技有限公司
杨姗
.
中国专利
:CN117958729A
,2024-05-03
[5]
医用灯光强度计算装置
[P].
罗武星
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罗武星
;
刘钊
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刘钊
;
杨立超
论文数:
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0
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杨立超
.
中国专利
:CN217465986U
,2022-09-20
[6]
摄像装置、图像分析装置、外部光强度计算方法、图像分析方法
[P].
吉本良治
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吉本良治
;
藤原晶
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藤原晶
;
山下大辅
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山下大辅
.
中国专利
:CN101685363A
,2010-03-31
[7]
一种线粒体探针的荧光强度校正方法、细胞浓度检测方法
[P].
李国平
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李国平
;
黄兴琳
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黄兴琳
;
陆煜桐
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陆煜桐
;
王希希
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王希希
;
冯禹
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冯禹
;
郭鹏
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郭鹏
;
王昊晟
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王昊晟
;
范神栋
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范神栋
.
中国专利
:CN114577774B
,2022-06-03
[8]
电位敏感性荧光染料的荧光强度测定方法
[P].
服部文幸
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服部文幸
;
福田惠一
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福田惠一
;
佐藤裕介
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佐藤裕介
.
中国专利
:CN102612644A
,2012-07-25
[9]
损伤强度计算方法和损伤强度计算装置
[P].
刘向君
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刘向君
;
丁乙
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丁乙
;
罗平亚
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罗平亚
;
梁利喜
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梁利喜
;
熊健
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熊健
.
中国专利
:CN108593771A
,2018-09-28
[10]
链接强度计算方法和链接强度计算设备
[P].
孙健
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孙健
;
夏迎炬
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夏迎炬
;
李中华
论文数:
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0
李中华
.
中国专利
:CN104978471A
,2015-10-14
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