透明导电成膜及透明导电图案的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880002967.X

申请日：

2018-01-15

公开(公告)号：

CN109564803A

公开(公告)日：

2019-04-02

发明(设计)人：

山木繁

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01B1300

IPC分类号：

B05D512 B05D704 B32B2718 C09D1152

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

段承恩;孙丽梅

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-06	授权	授权
2019-04-02	公开	公开
2019-04-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01B 13/00 申请日:20180115

共 50 条

[1]

透明导电膜的制造方法 [P].

山木繁 ;

米田周平 .

中国专利 :CN112970075A ,2021-06-15

[2]

透明导电膜的制造方法 [P].

山木繁 .

中国专利 :CN112930575B ,2021-06-08

[3]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

北野高广 .

中国专利 :CN101669177A ,2010-03-10

[4]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

中川原修 ;

瀨戸弘之 ;

岸本諭卓 .

中国专利 :CN101180687A ,2008-05-14

[5]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

深堀奏子 ;

岸本谕卓 .

中国专利 :CN101548343A ,2009-09-30

[6]

透明导电膜 [P].

M.T.斯特宾斯 .

中国专利 :CN104640697A ,2015-05-20

[7]

透明导电膜 [P].

萧仲钦 ;

练修成 ;

蔡家扬 ;

萧启帆 .

中国专利 :CN117736554A ,2024-03-22

[8]

透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜 [P].

汤川富之 ;

武井応树 ;

小林大士 ;

赤松泰彦 ;

清田淳也 ;

增泽健二 ;

石桥晓 .

中国专利 :CN104213085A ,2014-12-17

[9]

透明导电体及透明导电体的制造方法 [P].

井上纯一 .

中国专利 :CN105745720A ,2016-07-06

[10]

透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜 [P].

汤川富之 ;

武井応树 ;

小林大士 ;

赤松泰彦 ;

清田淳也 ;

增泽健二 ;

石桥晓 .

中国专利 :CN102666909A ,2012-09-12

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