一种气体分配装置及应用该分配装置的半导体处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810057524.9

申请日：

2008-02-02

公开(公告)号：

CN101499407A

公开(公告)日：

2009-08-05

发明(设计)人：

徐亚伟

申请人：

申请人地址：

100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L213065 C23F400 C23C16455 C30B2514 H01J3732

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司

代理人：

张天舒;陈源

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-09-30	实质审查的生效	实质审查的生效
2018-03-02	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/00 变更事项:专利权人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层变更后:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
2009-08-05	公开	公开
2010-07-28	授权	授权

共 50 条

[1]

一种气体分配装置及应用该分配装置的半导体处理设备 [P].

南建辉 ;

姚立强 ;

徐亚伟 ;

宋巧丽 .

中国专利 :CN101556904B ,2009-10-14

[2]

一种气体分配装置及应用该分配装置的半导体处理设备 [P].

肖青平 .

中国专利 :CN101567304B ,2009-10-28

[3]

一种气体分配装置及应用该分配装置的等离子体处理设备 [P].

宋巧丽 ;

南建辉 .

中国专利 :CN101339895B ,2009-01-07

[4]

气体分配装置及包括该气体分配装置的基板处理设备 [P].

都在辙 ;

全富一 ;

宋明坤 ;

李政洛 .

中国专利 :CN102299045A ,2011-12-28

[5]

半导体处理设备及其气体分配装置 [P].

徐扬 ;

连增迪 ;

姜勇 ;

张鹏 ;

范宏宇 ;

黎威 ;

王许 .

中国专利 :CN119495542A ,2025-02-21

[6]

半导体处理设备及其气体分配装置 [P].

张海龙 ;

闫韬 ;

林道震 ;

刘柱晗 ;

张钧琰 ;

姜勇 ;

陈恩毅 .

中国专利 :CN120140546A ,2025-06-13

[7]

气体分配装置和包括该气体分配装置的衬底处理设备 [P].

李宪福 ;

金大容 ;

金东佑 ;

朴俊起 ;

李相烨 ;

玄尚镇 .

中国专利 :CN110299309A ,2019-10-01

[8]

气体分配装置和包括该气体分配装置的衬底处理设备 [P].

李宪福 ;

金大容 ;

金东佑 ;

朴俊起 ;

李相烨 ;

玄尚镇 .

韩国专利 :CN110299309B ,2024-07-09

[9]

气体分配装置及半导体工艺设备 [P].

聂士明 .

中国专利 :CN120666314A ,2025-09-19

[10]

气体分配装置和半导体设备 [P].

刘永明 ;

周慧娟 ;

张伟 .

中国专利 :CN120291061B ,2025-08-26

← 1 2 3 4 5 →